WI-LA-005哈氏槽实验操作指引

文件编号WI-DS-LA-005类别文件名称版 次A/2页 次WI 1 of 2哈氏槽实验操作指引生效日期2014/1/21、目的 使实验分析人员熟练地掌握分析电镀药水电镀品质的技能。2、范围 适用于所有需要用哈氏槽实验来分析电镀药水的电镀品质。3、实验器材及规格(如下图)：名称数量规格用途整流器一台电压范围0-30V，最小刻度值2V，电流范围0-5A，最小刻度值0.2A提供直流电源红色的连接阳极“电源线两根20cm+”，黑色或黄色连接阴极“—”一个连接在阳极“ 不锈钢+”电线上，一个夹子两个长4.2cm连接在阴极“—”电线上哈氏槽片若干黄铜片“100mm×65mm”阴极 哈氏槽一个267mL或1000mL实验器皿铜片“65mm×65mm×5mm”含Cu2+≥99.9%、P含量哈氏槽阳极片三块为0.035-0.07%，锡片“65mm×65mm×5mm”不含Pb含纯Sn≥99.9%，镍片“65mm×65mm×5mm”含Ni阳极≥99.9%，4、实验条件(如下图)：缸名电流时间搅拌方式温度电铜缸2A10mins空气搅拌室温电锡缸2A5mins机械搅拌室温电镍缸2A10mins空气搅拌50-600C5、实验步骤5.1、取5.2、用5.3、将磨5.4、将除文件编号类别文件名称版 次页 次WI哈氏槽实验操作指引生效日期整流器+- 阳极片5.5、实验完毕取出槽片后冲洗干净，并用吹风机吹干，按照类别、缸号、日期做好标识,依据电流尺WI-DS-LA-005A/2 2 of 22014/1/2黄铜片（阴极） 进行判定如下图所示:

1 0.5 0.4 32 1.5 10.80.3 0.22108 3 2.52 1.5 1 0.8 0.6 TOTALEAMP./dm2-267mL-HULL CELLAMP31512 96 4.5 3.83 2.3 1.5 1.20.9 0.652520 1510 7.5 6.35 3.8 2.5 21.5 1 电铜缸 电镍缸

。

电锡缸

5.5.1、电铜缸:在此区域内光亮，无发白，发雾，粗糙，麻点， 针孔，烧板，发暗，发黑等为合格。5.5.2、电锡缸、电镍缸:在此区域内光亮，无发白，发雾，粗糙，麻点， 针孔，烧板，发暗，发黑等 为合格。5.5.3、对于不合格的槽片，通过模拟实验来得出相应的对策。

5.5.4、实验完毕取出槽片后冲洗干净，并用吹风机吹干，按照类别、缸号、日期做好标识保存起来。