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一种稳定六方氮化硼(h-BN)高比表面积的方法及其应用[发明专利]

来源：图艺博知识网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种稳定六方氮化硼（h-BN）高比表面积的方法

及其应用

专利类型：发明专利

发明人：林敬东,关健,许明亮,田金树,钱姝雅,张朝霞申请号：CN202011153965.6申请日：20201026公开号：CN112403502A公开日：20210226

摘要：本发明公开了一种稳定六方氮化硼(h‑BN)高比表面积的方法及其应用，该方法包括以下步骤：将金属源和h‑BN加入到溶剂中进行溶解处理，然后加热去除溶剂，将所得固体干燥后进行高温热处理，随后通入空气即可。本发明所制备的h‑BN催化剂中镍的负载量按重量比为5％～30％；比表面积为500～1000m/g。本发明通过采用金属离子占据h‑BN缺陷位的方法来提高h‑BN在高温氧化条件下的结构稳定性并维持其高比表面积。通过本发明所提供的方法制备的高比表面积金属离子修饰h‑BN与市场商业化h‑BN相比具有较高的比表面积，因此将通过本发明所提供的方法制备的h‑BN应用于丙烷氧化催化反应中可以暴露出更多的活性中心，从而提高催化反应活性，也可作为一种高稳定性的高比表面积催化剂载体。

申请人：厦门大学

地址：361005 福建省厦门市思明区思明南路422号

国籍：CN

代理机构：北京彭丽芳知识产权代理有限公司

代理人：彭丽芳

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